卫光科技申请挡片组件和化学气相沉积系统专利提高挡片的厚度监控、更换和清洗的效率

2026-02-05 06:54:13　　点击量：

　　国家知识产权局信息显示，西安卫光科技有限公司;西安微晶微电子有限公司申请一项名为“挡片组件和化学气相沉积系统”的专利，公开号CN121428537A，申请日期为2025年12月。

　　专利摘要显示，本申请提供了一种挡片组件和化学气相沉积系统。该挡片组件包括：至少两个挡片组，分别对应设置于立式炉的至少两个温度不同的装填区内；每一挡片组均包括至少一个挡片；不同挡片组内的挡片的厚度不同；挡片组所在的装填区的温度越高，挡片组内的挡片的厚度越小。本申请能够使得在相同的反应时间内，不同挡片组中，挡片以及挡片上的薄膜厚度之和更加接近，有利于降低不同挡片组中挡片的厚度差，进而能够同步对挡片的厚度监控步骤，同步不同的装填区的更换时间和清洗时间，提高挡片的厚度监控、更换和清洗的效率。本申请的边缘部薄于中间部，本申请具有凸起结构，能够减轻挡片与沉积物发生粘连的情况，便于取出挡片。

　　天眼查资料显示，西安卫光科技有限公司，成立于2007年，位于西安市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2651.37万人民币。通过天眼查大数据分析，西安卫光科技有限公司共对外投资了12家企业，参与招投标项目156次，财产线条，此外企业还拥有行政许可17个。

　　西安微晶微电子有限公司，成立于2016年，位于西安市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2000万人民币。通过天眼查大数据分析，西安微晶微电子有限公司参与招投标项目1次，专利信息7条，此外企业还拥有行政许可13个。

　　声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。